震驚全場(chǎng)，5nm理論------------------------------------------"什么？！""基于DUV光刻機(jī)的5nm制程工藝？他瘋了吧！""現(xiàn)在全世界最先進(jìn)的DUV光刻機(jī)也只能做到7nm，而且良率極低。他竟然說(shuō)能用DUV做5nm？簡(jiǎn)直是天方夜譚！"，評(píng)委們臉上都露出了難以置信的表情。，也抬起了頭，渾濁的眼睛里閃過(guò)一絲**。，今年已經(jīng)62歲了。他一生都在為國(guó)產(chǎn)芯片奮斗，親眼見(jiàn)證了無(wú)數(shù)次失敗。這次星聯(lián)合眾國(guó)的制裁，對(duì)他的打擊最大，他已經(jīng)好幾天沒(méi)合眼了。："林辰，你知道你在說(shuō)什么嗎？5nm制程工藝，現(xiàn)在只有積電半導(dǎo)體和星洲電子能做到，而且他們用的都是EUV光刻機(jī)。你說(shuō)能用DUV做5nm，你要是真能做到，我把這個(gè)答辯臺(tái)吃下去！""好啊。"林辰淡淡一笑，"如果我能證明我的理論是正確的，您不用吃答辯臺(tái)，只需要給我一個(gè)優(yōu)秀答辯成績(jī)就行。"，林辰走到電腦前，拔掉了原來(lái)的U盤(pán)，插上了自己隨身攜帶的U盤(pán)。，很快，一個(gè)全新的PPT出現(xiàn)在了大屏幕上。：《一種基于多重曝光技術(shù)的DUV光刻機(jī)5nm制程工藝方案》。，整個(gè)答辯現(xiàn)場(chǎng)鴉雀無(wú)聲。、光刻工藝、刻蝕精度、薄膜沉積等各個(gè)方面，詳細(xì)闡述了如何用DUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)5nm制程。"沉浸式四重曝光技術(shù)"、"自對(duì)準(zhǔn)多重圖形技術(shù)"、"高選擇性刻蝕工藝"，每一個(gè)都顛覆了現(xiàn)有的技術(shù)認(rèn)知。，數(shù)據(jù)詳實(shí)，公式推導(dǎo)嚴(yán)謹(jǐn)，沒(méi)有任何漏洞。
評(píng)委們從最初的不屑，到驚訝，再到震驚，最后一個(gè)個(gè)都站了起來(lái)，眼睛死死地盯著大屏幕，生怕錯(cuò)過(guò)任何一個(gè)細(xì)節(jié)。
張敬華教授的身體微微顫抖著，他從事芯片研究四十多年，從來(lái)沒(méi)有見(jiàn)過(guò)如此完美的技術(shù)方案。
這個(gè)方案如果真的能實(shí)現(xiàn)，那將徹底改變?nèi)A夏芯片產(chǎn)業(yè)的命運(yùn)！
"……以上就是我的全部理論。"林辰關(guān)掉PPT，轉(zhuǎn)過(guò)身，看著目瞪口呆的評(píng)委們，"各位老師，有什么問(wèn)題嗎？"
現(xiàn)場(chǎng)一片寂靜，沒(méi)有人說(shuō)話。
過(guò)了足足五分鐘，張敬華教授才深吸一口氣，聲音沙啞地問(wèn)道："林辰，你的這個(gè)方案，有實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)支持嗎？"
"有。"林辰點(diǎn)了點(diǎn)頭，"我已經(jīng)在實(shí)驗(yàn)室里做了模擬實(shí)驗(yàn)，良率可以達(dá)到90%以上。"
"什么？！"
又是一陣驚呼。
現(xiàn)在積電半導(dǎo)體用EUV光刻機(jī)做5nm，良率也才80%左右。林辰竟然說(shuō)用DUV能做到90%的良率？
這已經(jīng)不是顛覆了，這是神跡！
張敬華教授猛地站起來(lái)，走到林辰面前，緊緊地抓住他的手，激動(dòng)地說(shuō)道："林辰，跟我來(lái)實(shí)驗(yàn)室！現(xiàn)在就去！我要親眼看到你的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)！"
(第二章完)